2016东华大学学术讲座：大规模集成电路及先进光刻工艺

一、主题

       大规模集成电路及先进光刻工艺

二、主讲人

       刘小虎

三、地点

       松江校区第二教学楼2414教室

四、时间

       2016-11-25 13:00:00

五、组织单位

       理学院

六、主讲人简介

       刘小虎，2012年毕业于东华大学材料科学与工程学院，硕士研究生。目前在上海华力微电子有限公司工作，光刻工艺主任（二级）工程师，主要负责前段光刻工艺，在公司NIKON浸没式光刻机量产，28nm套刻精度改善方面做出重要贡献。熟悉55LP/CIS/HV等制造工艺，以及NIKON/ASML各类型光刻机，曾赴日本NIKON公司进行培训。

七、内容摘要

       集成电路技术让电子设备体积越来越小，价格越来越低，性能越来越好。从沙子到芯片、从PN结到集成电路，全面介绍集成电路产业链及芯片制造工艺。进一步地，结合分辨率和数值孔径等，详细介绍光刻机及先进光刻工艺。最后介绍集成电路制造公司组织框架、相关职位，以及国内外相关公司情况等。

八、讲座主持

       张菁教授